HOFMANN, Hans

né le 21 mars 880 à Weissenberg, Bavière, Allemagne ; 1889, École d'art à Munich ; 1904-1914, arrive à Paris, travaille à l'académie de la Grande Chaumière*; amitié avec Delaunay*; 1915, revient à Munich ; 1930-1931, donne des cours d'été à l'université de Californie, Berkeley ; 1932-1933, enseigne à l'Art Student League de New York ; 1933, quitte définitivement l'Allemagne et crée sa propre école d'art à New York ; puis, en 1934, à Princeton ; 1940, peint avec la technique du dripping*; 1941, naturalisé américain ; 1963, fait une donation importante d'oeuvres de ses différentes époques au musée de Berkeley ; 1966, meurt à Berkeley.

Type(s) : Artiste

Technique(s) : Peintre

Présentation : Pendant la guerre de 1914-1918, toute son oeuvre disparait, y compris ce qu'il a exposé à la Nouvelle Sécession*. On ne peut donc parler, pièces à l'oeil, que de la période postérieure à son arrivée aux États-Unis. Il est avant tout un initiateur, celui de l'expressionnisme abstrait*, avec pour seule constante la stridence des couleurs, puisque, formellement, il est successivement lyrique, tachiste*, et finit géométrique, Classic Fragments, (1947, MACM), pièces beiges portant petits motifs rouges et se détachant sur fond noir; Intérieur,(1949, MPSG), Pompéi, (1959, Tate), Nulli secundus, (1964, ibid). Toute la peinture abstraite américaine d'après guerre, et en particulier l'école de New York*, est, indirectement tout au moins, influencée par son enseignement.

Expositions : 1910, Paul Cassirer, Berlin ; 1931, Université de Californie, Berkeley; 1949, Paris.

Rétrospective : 1959, New York.

Musées : Musée de Berkeley, Californie.